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構内緑地にて、グランドカバープランツによる植栽実験を行います

 本実験は、当事務所で開催している新技術説明会にて発表された技術で、「構内緑地部の雑草抑制」を目的とした現地実験であり、平成18年3月23日に苗吹付作業を行いました。
 今後、継続的に植生状況・雑草発生状況を観察し、その効果を確認していきます。


技術的特徴(グランドカバープランツによる植栽)
 @セル成形苗を用いて、地表面を密に覆うことによって雑草の発生を抑制する。
 A開花による景観形成に優れる。
 B草丈が低く(30cm以下)、刈り込みが原則として不要である。
 C軽微な維持管理によって長期の植生が可能である。

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